二氧化氯發生器設備清洗和注意事項
氯氣及次氯酸鈉對飲用水和其它工業用水消毒所產生的副作用引起了人們的廣泛關注,因此,使用毒副作用極低的二氧化氯進行消毒已成為當今水處理領域的主流。二氧化氯發生器主要用于對飲用水消毒和污水處理等.
在平常如何對二氧化氯發生器設備清洗和注意事項?
設備清洗
設備主機下部有排污口,可進行清洗排污,清洗時在水射器正常工作狀態下,打開反應室放空閥,關閉反應室空氣進口閥,打開反應室反沖洗閥,約半小時即可,然后關閉反應室放空閥,關閉反應室反沖洗閥,打開反應室空氣進口閥,關閉原水進水閥。
注意:正常情況下,應該每月清洗一次。
二氧化氯發生器注意事項
1.氯酸鈉和鹽酸應分開單獨存放。
2.氯酸鈉應放在干燥、通風、避光處,嚴禁與易燃物品混放,嚴禁擠壓、碰撞,氯酸鈉應符合GB1618-1995工業用氯酸鈉的要求。
3.鹽酸濃度為30%左右,應符合G320-93工業合成鹽酸的要求,嚴禁使用廢酸。
4.應注意經常清洗原料罐下部的沉淀物,防止堵塞計量泵。
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